[서울=뉴시스] 김혜경 기자 = 이재용 삼성전자 부회장이 20일 경기 화성사업장을 방문해 '시스템반도체 세계 1위'에 대한 의지를 다졌다.

20일 삼성전자에 따르면 이 부회장은 이날 오전 화성 반도체사업장을 찾아 극자외선(EUV) 전용 반도체 생산라인을 직접 살펴보고 임직원들을 격려했다.

이 부회장은 이 자리에서 "지난해 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었고, 오늘은 긴 여정의 첫 단추를 꿰었다"며 "이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자"고 강조했다.

이 부회장이 방문한 'V1 라인'은 삼성전자의 첫 EUV 전용 라인으로 이달 초 본격적으로 7나노 이하 반도체 생산에 돌입했다.

'V1 라인'은 삼성전자의 첫 번째 EUV 전용 라인으로 2018년 초 건설을 시작해 지난해 하반기 완공됐다. VI라인에 투자한 누적 금액은 60억달러(약 7조2000억원) 수준이다.

삼성전자는 V1라인에서 초미세 EUV 공정 기반 7나노부터 혁신적인 GAA(Gate-All-Around) 구조를 적용한 3나노 이하 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산할 계획으로, 올해 말 기준으로 7나노 이하 제품의 생산 규모가 지난해 대비 약 3배 이사 확대될 전망이다.

삼성 신규 EUV 라인은 시스템반도체 세계 1등이라는 삼성의 비전 달성을 위해 중요한 역할을 담당한다. EUV 공정은 짧은 파장의 극자외선으로 세밀하게 회로를 그릴 수 있어 7나노 이하 초미세 공정을 구현할 수 있다. 이는 급증하는 정보를 처리할 수 있는 고성능 저전력 반도체를 만드는데 필수적인 기술이다.

회사 측은 "'V1 라인'은 5G·AI·자율주행 등 4차 산업혁명 시대를 가속화하는 차세대 반도체 생산 핵심기지로서 역할을 할 것으로 기대된다"고 밝혔다.

한편 이 부회장이 화상사업장을 찾은 것은 지난 1월에 이어 올 들어 두 번째다.

그는 지난 1월2일 새해 첫 경영 일정으로 화성사업장 내 반도체 연구소를 찾아 '삼성전자가 세계 최초로 개발한 3나노 공정기술'을 보고 받고, DS(디바이스솔루션)부문 사장단과 함께 차세대 반도체 전략을 논의했다.이 부회장은 이 자리에서 “역사는 만들어가는 것이다”라면서 “잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자”라고 말했다.

이 부회장이 올 들어 실시한 두 번의 현장경영 방문지로 모두 화성사업장을 선택한 것은 시스템 반도체 분야에서 세계 1위가 되겠다는 목표달성 의지를 나타낸 것으로 해석된다.

삼성전자는 지난해 4월 발표한 '반도체 비전 2030'를 통해 메모리 반도체 뿐만 아니라 시스템 반도체와 파운드리 사업 등 비메모리 반도체 분야에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 각오를 밝힌 바 있다. 이를 위해 2030년까지 133조원을 투자할 계획이다.

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