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과기부, 소재·부품·장비 국가연구실 12곳 지정

입력 2019.12.11. 14:22 댓글 0개
국가연구인프라(3N) 지정식 개최
[서울=뉴시스]최기영 과학기술정보통신부 장관. (사진=과학기술정보통신부 제공) 2019.11.27.photo@newsis.com

[서울=뉴시스] 이재은 기자 = 과학기술정보통신부는 국가연구실 및 국가연구시설을 지정하는 국가연구인프라(3N) 지정식을 11일 창원 재료연구소에서 개최했다.

최기영 과기정통부 장관을 비롯해 국가연구실 및 국가연구시설 연구책임자, 재료연구소, 한국전기연구원 관계자 등이 참석했다.

국가연구인프라는 각각 영어표기로 N-LAB(National Laboratory), N-Facility(National Facility)로 이름 붙였고, 추후 추진할 국가연구협의체, N-TEAM(National Team)과 함께 3N 정책으로 정부가 관리해 나갈 예정이다.

지난 8월28일 발표한 '소재·부품·장비 연구개발 투자전략 및 혁신대책'의 후속조치로 추진중인 국가연구인프라 지정은 소재·부품·장비 분야의 대표적인 연구실과 연구시설의 역량을 국가차원에서 한데 묶었다. 연구자의 자긍심 고취, 핵심품목에 대한 안정적 연구 수행과 긴급상황 시의 신속한 대응을 위함이다.

과기정통부는 국가연구인프라를 3차례에 걸쳐 지정할 계획으로 이번 1차 지정의 경우, 국가연구실은 즉시 운영이 가능한 정부출연연구기관 소속의 연구실을 대상으로 했다.

국가연구시설은 반도체·디스플레이 분야 긴급 공정지원이 가능한 나노팹시설을 대상으로 했다.

향후 과기정통부는 소재·부품·장비 분야의 대학·전문연구소 등으로 국가연구실과 국가연구시설 지정 대상 범위를 확대하고, 국가연구협의체(N-TEAM) 또한 2차 지정부터 추진할 계획이다.

지정된 N-Lab은 재료연구소의 타이타늄 연구실·금속분말 연구실, 한국전기연구원의 탄소나노소재 전극 연구실, 한국기계연구원의 로봇메카트로닉스 연구실·초정밀시스템 연구실·플라즈마 연구실, 한국전자통신연구원의 디스플레이 패널기술 연구실·초고속 광통신부품 연구실, 한국표준과학연구원의 반도체 측정장비 연구실, 한국화학연구원의 불소화학 소재공정 연구실·석유화학 촉매 연구실이다.

N-Facility는 한국나노기술원, 나노종합기술원, 서울대 반도체공동연구소, 전자부품연구원 전북지역본부 나노기술집적센터, 포스텍 나노융합기술원, 한국생산기술연구원 서남지역본부 나노기술집적센터다.

아울러 이번 행사에서는 재료연구소의 타이타늄 연구실과 수원 소재 한국나노기술원이 각각 향후 운영계획을 발표했다.

최 장관은 "우리나라에 대한 수출규제는 일견 위기로 생각되지만, 동시에 우리에게 좋은 기회"라며 "국가연구실과 국가연구시설이 산업현장과 함께 핵심기술 개발과 테스트베드 지원에 중추적인 역할을 수행해 나갈 것"을 당부했다.

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